ASML CEO：短期内尚无企业能实质性挑战其EUV光刻机垄断地位

OmniTools 5月6日消息，5月5日消息，ASML首席执行官Christophe Fouquet在接受采访时表示，尽管面临初创企业竞争及地缘技术博弈，但短期内尚无企业能实质性挑战ASML在极紫外（EUV）光刻领域的绝对壁垒。Fouquet指出，EUV系统研发耗时逾20年，高度依赖数十年积累的供应链协同与精密工程能力，当前所谓“替代方案”仍停留在概念或单点验证阶段。针对中国“逆向工程”传闻，他明确否认ASML曾向中国出口EUV设备，强调所有设备均受严格追踪，且中国团队与EUV核心技术完全隔离。目前对华供应的均为符合出口管制的旧代DUV设备。随着AI算力需求爆发，全球芯片供应链在未来数年仍将面临产能瓶颈。