Runway发布Aleph 2.0视频编辑模型

OmniTools 5月22日消息，Runway正式发布Aleph 2.0视频编辑模型。该模型支持在保持画面其余部分不变的前提下，对视频中指定区域进行精准修改。

Aleph 2.0已集成至全新推出的Edit Studio工具中，可处理最长30秒、分辨率为1080p的多镜头视频序列。

用户可通过Runway Academy获取相关使用教程。