Runway API 持续扩展支持，新增多款生成模型与端点

OmniTools 5月30日消息，Runway 官方宣布持续扩展其 API 的模型与端点支持，旨在帮助开发者将前沿生成能力无缝集成至各类应用与平台中。此次更新涵盖 Seedance 2.0、GPT Image 2、HappyHorse 1.0、Nano Banana Pro 及 Magnific Precision Upscaler V2 等多款模型。开发者现可通过统一 API 接口灵活调用上述模型，加速产品迭代与创新。