Runway 推出 Aleph 2.0 模型，支持精准局部图像编辑

OmniTools 6月4日消息，Runway 官方宣布推出 Aleph 2.0 模型，进一步强化图像局部编辑能力。该模型可精准修改用户指定区域，同时保持画面其余部分不变。目前，Aleph 2.0 已集成至 Runway 新上线的 Edit Studio 工具中，用户可通过官方渠道直接体验实时局部编辑功能。